濺射鍍膜機 Leica EM ACE600

碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴

使用 EM ACE600 濺射鍍膜機，充滿信心地制備用于電鏡分析的細粒度薄膜。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產(chǎn)生值得信賴的可重現(xiàn)結(jié)果，提高每次運行的樣本產(chǎn)出。

通過方便的前門裝載方法、僅需按下一個按鈕即可啟動的收料即鍍式自動化鍍膜過程，EM ACE600 可以讓您簡單可靠地制備常規(guī)樣本并節(jié)省寶貴的時間。

適合廣泛應用領域的高真空鍍膜系統(tǒng)

EM ACE600 濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應用領域。 實現(xiàn)工作流程目標，滿足實驗室需求——可在同一個制備過程中運行兩個不同的濺射源，還可配置 EM ACE600 用于高級冷凍工作流程。

無論您需要……

●對扁平或結(jié)構化的非導電樣本進行高分辨率成像

●增強納米級結(jié)構（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）的對比度

●生成透射電鏡 (TEM) 載網(wǎng)的薄而堅固的支撐層，或者

●為敏感樣本提供保護層

●擴展冷凍應用中的系統(tǒng)

……使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，皆可實現(xiàn)。

通過濺射鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統(tǒng)，每次運行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝，滿足鍍膜所需的適當條件并實現(xiàn)可重現(xiàn)的結(jié)果。

可進行高達 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析，具有出色的基礎真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細均衡調(diào)整工藝參數(shù)。="">

為進一步加強鍍膜效果，可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar，之后再嘗試對氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

不同材料的2納米厚的細粒度濺射鍍膜，沉積在 SiOx 基材上，200kX 放大倍率。

通過碳鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

EM ACE600 可以通過碳絲鍍膜、碳棒鍍膜或電子束蒸發(fā)生成高品質(zhì)碳膜。

自從徠卡顯微系統(tǒng)開發(fā)出應用于 EM ACE600 的自適應脈沖方法以來，

碳絲蒸發(fā)已成為一種廣泛使用的方法。 它可生成精確、穩(wěn)定、非晶態(tài)的亞納米級厚度的薄膜，同時限度減少對樣本的熱損傷影響。 無論您需要納米級厚度、堅固且潔凈的透射電鏡支撐層、擴散（保護）鍍膜還是大面積均質(zhì)碳層，碳絲都是適合您需求的。

對于專用應用領域，如旋轉(zhuǎn)投影，可以使用電子束蒸發(fā)器。 其小光束發(fā)散功能非常適合投影鍍膜，可增強納米級結(jié)構的邊緣對比度。

精確碳沉積（1 - 5納米厚碳膜）

按需配置 EM ACE600

通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一臺鍍膜機運行多個制程。 同時，將濺射頭與的碳絲蒸發(fā)器結(jié)合使用或者選用兩個濺射源，可在一次制備過程中完成多層金屬鍍膜。

●采用經(jīng)過優(yōu)化的帶兩個斜角端口和一個旋轉(zhuǎn)臺的雙源方法，可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分布的薄膜

●有穩(wěn)定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇

●為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

●可隨時在現(xiàn)場升級

適用于雙源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供選擇： 1- 碳絲蒸發(fā) | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發(fā) | 4- 電子束蒸發(fā)

專注于制備過程的關鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，只需按下一個按鈕即可讓您充滿信心地完成常規(guī)樣本制備。 簡單可靠的工作流程和便捷的標準操作程序讓您能夠?qū)Ｗ⒂陔婄R樣本制備的關鍵部分。 您可以專注于優(yōu)化工作流程，減少自己學習操作方法或培訓他人使用方法的時間。

●通過前門安全裝卸敏感樣本

●基于工作流程的用戶界面，可快速訪問相關參數(shù)，全程引導式操作

●輕量、穩(wěn)定的濺射源，方便日常操作

EM ACE600 觸摸屏，通過基于工作流程的用戶界面操作

擴展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜，提升實驗室電鏡實驗能力。 將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后，通過 EM VCT500 傳輸系統(tǒng)將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機可幫助制備樣本用于研究，如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結(jié)構分析。

EM ACE600 提供：

用于傳輸冷凍樣本的接口

用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺

基本型斷裂裝置

裝配 EM VCT500 冷凍傳輸系統(tǒng)的 EM ACE600

選擇優(yōu)化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，滿足實驗室日常工作需求。

有各種樣本支架和樣本臺可供選擇，例如帶有多達 3 個電動軸的 3 軸樣本臺或?qū)Ｓ美鋮s臺。

可快速更換的樣本臺基片使 EM ACE600 成為多功能工具。

1：電動 3 軸樣本臺 | 2：旋轉(zhuǎn)投影（LARS）樣本臺 | 3：旋轉(zhuǎn)“手動”樣本臺 | 4：冷凍臺

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領域的應用十分廣泛。 它需要具有導電性，但對電子束透明，并且不能具有顆粒結(jié)構。

采用自適應脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅固并具有導電性，還可以通過烘焙法進一步減少污染。 最終，這類薄膜提供：

●對電子的高透明度

●足以承受電子轟擊的強度

●均勻的厚度，這對于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關重要

A：常規(guī)碳膜（15納米碳）；B：超薄碳膜（3納米）。 輕松觀察硒化鎘 (CdSe) 量子

片的晶格。 圖片由比利時 Eva Bladt 和 Sara Bals（EMAT，安特衛(wèi)普大學）采集。

提供方： Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方： Daniel Vanmaekelbergh，

烏特勒支大學納米材料科學研究所（Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht）

旋轉(zhuǎn)投影—使納米級結(jié)構清晰可見

以專用小角度旋轉(zhuǎn)投影（LARS）設置配置 EM ACE600，可在透射電鏡中對納米級結(jié)構（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）成像。 EM ACE600 電子束源與電動 LARS 樣本臺將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優(yōu)化的樣本臺幾何結(jié)構相結(jié)合，可實現(xiàn)掠角入射沉積。 用細粒度鉑層以小角度對 DNA 鏈進行投影鍍膜，然后添加碳層穩(wěn)定脆性結(jié)構，以便在 TEM 中進行分析。

出芽酵母（S.cerevisiae，釀酒酵母）的 DNA 復制分叉的 TEM 圖片，

使用 EM ACE600 電子束鍍膜機通過小角度旋轉(zhuǎn)投影方法獲得

標準掃描電鏡工作流程

使用標準掃描電鏡工作流程研究化學固定樣本的表面結(jié)構。 使用 EM TP 組織處理機制備樣本，然后使用 EM CPD300 對樣本進行臨界點干燥。 下一步是使用 EM ACE200 或 EM ACE600 對樣本鍍膜，然后在掃描電鏡中成像。

1）自動組織處理（EM TP） |（2）自動臨界點干燥（EM CPD300） |

（3）碳鍍膜和/或濺射鍍膜（EM ACE200 / EM ACE600） |（4）在 SEM 中分析圖像