Quanta™ 掃描電鏡包括6個(gè)變量的壓力和環(huán)境掃描電子顯微鏡（ESEM™）和兩個(gè)DualBeam™系統(tǒng)，所有這些都可以容納多個(gè)樣品和工業(yè)過(guò)程控制實(shí)驗(yàn)室，材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)室和生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)室的成像要求。

Quanta™ 掃描電鏡特點(diǎn)

• zui小化樣品制備的數(shù)量，低真空和 ESEM功能可實(shí)現(xiàn)絕緣及/或含水樣品的無(wú)荷電成像和分析。
• 通過(guò) Quanta 的“經(jīng)由透鏡”壓差真空技術(shù)，可在高真空和低真空條件下對(duì)導(dǎo)電和絕緣樣品進(jìn)行EDS和EBSD分析，提高分析能力。穩(wěn)定的高射束電流（高達(dá) 2 μA）可實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確的分析。
• 使用原位樣品臺(tái)在-165 °C - 1500 °C 環(huán)境溫度條件下執(zhí)行各種自然狀態(tài)樣品的動(dòng)態(tài)原位分析。
• 使用可選的射束減速模式完成表面成像，以獲取導(dǎo)電樣品的表面和成分信息。
• 易用和直觀性令初學(xué)者也能進(jìn)行高效操作。