NanoMap 500LS掃描三維表面輪廓儀
特點
? 常規(guī)的接觸式輪廓儀和掃描探針顯微鏡技術(shù)的*結(jié)合
? 雙模式操作（針尖掃描和樣品臺掃描），即使在長程測量時也可以得到*化的小區(qū)域三維測圖
? 針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅(qū)動掃描模式，三維掃描范圍從10μm X 10μm 到500μm X 500μm。樣品臺掃描使用高級別光學參考平臺能使長程掃描范圍到50mm。
? 在掃描過程中結(jié)合

 NanoMap 500LS掃描三維表面輪廓儀 

特點 
? 常規(guī)的接觸式輪廓儀和掃描探針顯微鏡技術(shù)的*結(jié)合 
? 雙模式操作（針尖掃描和樣品臺掃描），即使在長程測量時也可以得到*化的小區(qū)域三維測圖 
? 針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅(qū)動掃描模式，三維掃描范圍從10μm X 10μm 到500μm X 500μm。樣品臺掃描使用高級別光學參考平臺能使長程掃描范圍到50mm。 
? 在掃描過程中結(jié)合彩色光學照相機可對樣品直接觀察 
? 針尖掃描采用雙光學傳感器，同時擁有寬闊測量動態(tài)范圍（zui大至500μm）及亞納米級垂直分辨率?。▃ui?。?/span>.１nm ） 
? 軟件設置恒定微力接觸 
? 簡單的2步關(guān)鍵操作，友好的軟件操作界面 
應用 
三維表面輪廓測量和粗糙度測量，即適用于精密拋光的光學表面也可適用于質(zhì)地粗糙的機加工零件。 
薄膜和厚膜的臺階高度測量 
劃痕形貌，磨損深度、寬度和體積定量測量 
空間分析和表面紋理表征 
平面度和曲率測量 
二維薄膜應力測量 
微電子表面分析和MEMS表征 
表面質(zhì)量和缺陷檢測 
環(huán)境要求 
濕度：10-80%， 相對濕度，無冷凝 
溫度：65-85 華氏度（△T＜1度/小時） 
電源要求：110/240V，50/60 Hz 

技術(shù)規(guī)格 
類型 項目 規(guī)格 
綜述 小范圍XY掃描頭，提供高精確度 
XY平臺掃描，提供大尺度測量 
帶亮場和暗場的全時彩色CCD照相機 
軟件控制觸針測量力，范圍 0.1-100mg 
觸針針尖半徑選件 2μm，5 μm，12.5 μm和25 μm，0.1-0.8μm可選 
針尖掃描 
（Piezo掃描器） 臺階高度重現(xiàn)性 0.8nm 
垂直分辨率 0.1nm 
測量高度精細范圍 5μm 
測量高度粗略范圍 0.5mm 
XY掃描分辨率 0.1μm 
XY掃描定位重現(xiàn)性 0.2μm 
掃描速度 10-50μm/sec 
掃描范圍 10-500μm 
每次掃描數(shù)據(jù)點 100-1000數(shù)據(jù)點 
樣品臺掃描 XY樣品區(qū)域 100mm X 100mm, 150mm安裝間隙 
XY平臺運動范圍 100mm X 100mm（150mm X 150mm） 
XY平臺定位重現(xiàn)性 5μm，2μm可選 
zui大掃描長度 50mm 
掃描速度 0.1-5mm/sec 
Z平臺范圍 55mm 
zui大樣品高度 50mm 
手動旋轉(zhuǎn)平臺范圍 360度 
手動傾斜平臺范圍 ±2度 
標準樣品 臺階高度標準樣品（NIST認證） 100μm 
系統(tǒng) 光學照相機視場范圍 1.5 X 1.5mm 
光學照明 軟件控制暗場和亮場 
電腦 Pentium IV, USB2.0聯(lián)接 
操作系統(tǒng) Win XP 
系統(tǒng)動力需求 90-240V，350W 
空間尺寸 20’’ 寬X 22’’長 X 25’’高 
重量 160lb 三維輪廓儀、白光干涉儀、三維臺階儀、三維薄膜分析儀、三維形貌儀、三維粗糙度儀、表面輪廓儀、表面臺階儀、薄膜分析儀、表面形貌儀、表面粗糙度儀、非接觸式輪廓儀、非接觸式臺階儀、非接觸式表面形貌儀、非接觸式表面粗糙度儀、接觸式輪廓儀、接觸式臺階儀、接觸式表面形貌儀、接觸式表面粗糙度儀、探針式輪廓儀、探針式式臺階儀、探針式表面形貌儀、探針式表面粗糙度儀、雙模式輪廓儀、雙模式臺階儀、雙模式表面形貌儀、雙模式表面粗糙度儀、三維表面輪廓儀、三維表面臺階儀、三維表面形貌儀、三維表面粗糙度儀、

美國AEP Technology公司主要從事半導體檢測設備, MEMS檢測設備, 光學檢測設備的生產(chǎn)制造，是表面測量解決方案行業(yè)的供應者,專門致力于材料表面形貌測量與檢測。
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