在微電子、半導體、光電子等高科技制造領域，光刻工藝是至關重要的一環(huán)，而光刻膠配套試劑則是保障光刻工藝順利進行的關鍵因素。我們提供一系列優(yōu)質的光刻膠顯影液、去膠液以及增粘劑，滿足不同工藝和需求。
顯影液系列
RZX-3038，這是一款國產通用型光刻膠顯影液，規(guī)格為4L/瓶。它具有廣泛的適用性，可用來顯影S1800系列、AZ5214、ROL-7133等多種系列和型號的光刻膠。無論是哪種類型的光刻膠，RZX-3038都能發(fā)揮出色的顯影效果，為后續(xù)的工藝步驟奠定堅實基礎，其國產屬性也降低了成本，是眾多實驗室和小型企業(yè)的理想選擇。
MF-319，規(guī)格為5L/瓶，這是一款進口光刻膠顯影液，是S1800 G2系列光刻膠配套專用顯影液。進口的優(yōu)質原料保證了其顯影的精準性和穩(wěn)定性，能夠精準地顯現(xiàn)出光刻膠中的圖案，確保微細結構的精確復制，適用于對精度要求較高的制造領域。
AZ 400K，規(guī)格為加侖/瓶，同樣是進口光刻膠顯影液，可用來顯影AZ等多種系列和型號的光刻膠。它具有良好的顯影性能，能夠快速且均勻地顯影，提高生產效率。其穩(wěn)定的化學性質也保證了在不同環(huán)境條件下都能保持一致的顯影效果。
AZ 300 MIF Developer，規(guī)格為20L/桶，同樣適用于顯影AZ等多種系列和型號的光刻膠。大容量的包裝設計，適合大規(guī)模生產使用，減少了頻繁更換試劑的麻煩，降低了生產成本。
PGMEA，規(guī)格為4L/瓶，是國產SU8光刻膠顯影液。針對SU8光刻膠的特性進行了優(yōu)化，能夠有效地顯影SU8光刻膠，保證顯影后的圖案清晰、邊緣整齊。
SU-8 Developer，規(guī)格為4L/瓶，這是一款進口光刻膠去膠液，是SU-8系列產品配套專用顯影液。它能夠精準地與SU-8光刻膠發(fā)生反應，實現(xiàn)高質量的顯影效果，為SU-8光刻工藝提供了可靠的保障。
去膠液系列
NMP，規(guī)格為4L/瓶，是國產通用型光刻膠去膠液?？捎脕砣コ齋1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等多種型號光刻膠。其強大的去膠能力，能夠快速去除光刻膠殘留，保證基底的清潔度，為下一次的光刻工藝做好準備。
AZ 400T STRIPPER，規(guī)格為加侖/瓶，是進口光刻膠去膠液，是AZ系列產品配套專用去膠液。它針對AZ系列光刻膠的特性進行了優(yōu)化，能夠有效地去除AZ系列光刻膠，避免殘留對后續(xù)工藝的影響。
remover 1165，規(guī)格為加侖/瓶，是進口光刻膠去膠液，是S1800 G2、SPR 220系列、PM等系列產品配套專用去膠液。它具有廣泛的適用性，能夠快速去除多種系列光刻膠，且對基底材料無損傷。
Remover PG，規(guī)格為4L/瓶，是進口光刻膠去膠液，是SU8、LOR/PMGI SF、PMMA等多個系列產品配套專用去膠液。它能夠精準地去除這些系列光刻膠，保證去膠的均勻性。
增粘劑
HMDS，規(guī)格有1L/瓶和加侖/瓶兩種。它是一種光刻膠增粘劑，通過旋涂或熏蒸的方法使增粘劑附著在襯底表面，可有效改善光刻膠與襯底的粘附性，適用于玻璃、石英等粘附性比較差的襯底。在光刻工藝中，良好的粘附性能夠保證光刻膠在后續(xù)的顯影、刻蝕等過程中不會脫落，提高工藝的穩(wěn)定性和成品率。
我們提供的這一系列光刻膠配套試劑，無論是國產還是進口，都具有各自的優(yōu)勢和特點，能夠滿足不同客戶的需求。我們致力于為客戶提供高質量、高性價比的產品，為光刻工藝的發(fā)展提供有力支持。
