在微電子、半導(dǎo)體、光電子等領(lǐng)域，光刻膠是關(guān)鍵材料，它如同精密制造的“魔法畫筆”，為微納加工提供了精準(zhǔn)的圖案轉(zhuǎn)移能力。
S1800 G2系列光刻膠： 這是一款高分辨率正膠，膠厚范圍在0.4至2.7微米之間，常被用作正性薄膠。它具有優(yōu)良的粘附性，極限線寬可達(dá)0.5微米。特別適用于需要小線寬的雙層膠lift-off工藝，可以搭配LOR/PMGI系列使用。該系列包含S1805 G2、S1813 G2、S1818 G2等型號。
SPR955-CM系列光刻膠： 同樣屬于高分辨率正膠，其膠厚范圍更寬，為0.7至3.5微米，也是常用的正性薄膠，粘附性良好，極限線寬為0.35微米。包含的型號有SPR 955-0.7、SPR 955-0.、SPR 955-1.1、SPR 955-1.4、SPR 955-1.8、SPR 955-2.1等。
ROL-7133光刻膠： 這是一款國產(chǎn)常用的負(fù)膠，適用于g線、h線及i線光源/波長，膠厚范圍在2.2至4微米，其底切角度適中，非常適合用于lift-off工藝來制作金屬電極或?qū)Ь€。
SUN-lift 1303 光刻膠： 另一款國產(chǎn)常用負(fù)膠，同樣適用g/h/i線光源/波長，膠厚范圍也是2.2至4微米，底切角度適中，可用于lift-off工藝制作金屬電極或?qū)Ь€。
PMMA 光刻膠： 是一種正性電子束光刻膠，以其高分辨率著稱，適用于電子束光刻、二維材料轉(zhuǎn)移、多層T-gate等精密工藝。
AZ 5214E光刻膠： 作為常用正性薄膠，其膠厚范圍在1至1.6微米。它既可以搭配LOR/PMGI做雙層膠lift-off工藝，也可以直接反轉(zhuǎn)成負(fù)膠來做lift-off工藝，靈活性較高。
AZ 4620光刻膠： 是一款常用正性厚膠，膠厚范圍很廣，從3到60微米，可用于干法/濕法刻蝕、電鍍等多種工藝。
AZ MIR 701/703光刻膠： 屬于高分辨率正膠，膠厚范圍在0.7至1.4微米，是常用的正性薄膠，粘附性好，極限線寬為0.5微米。
SU-8光刻膠： 是一種高深寬比負(fù)膠，其膠厚范圍極大，可達(dá)0.5至650微米。它具有高透明度和陡直性好的特點，非常適合用于制作絕緣層、微流控等工藝。
AZ nLOF 2000系列光刻膠： 屬于nlof系列負(fù)性光刻膠，是耐高溫的Lift-off光刻膠。包含的型號有AZ nLOF 2020、AZ nLOF 2035、AZ nLOF 2070。
SPR220系列光刻膠： 是常用正膠，膠厚范圍在1至10微米，可用于干法/濕法刻蝕、電鍍等工藝。包含的型號有SPR220-3.0、SPR220-4.5、SPR220-7.0。
AZ 1500系列光刻膠： 為高分辨率正膠，膠厚范圍在0.7至1.4微米，是常用的正性薄膠，粘附性好，極限線寬為0.5微米。它也可作為雙層膠lift-off工藝的底層膠，可與S1800 G2、SPR 955、AZ5214E等光刻膠搭配使用，其膠厚范圍在50納米至6微米，粘附性好且易于去膠。
此外，光刻膠領(lǐng)域還涉及到圖形反轉(zhuǎn)膠、電子束光刻膠、雙層膠工藝、LOR光刻膠、PMGI SF光刻膠、Lift-off工藝光刻膠、正性光刻膠、負(fù)性光刻膠、厚光刻膠、薄光刻膠、紫外光刻膠以及底層膠等多種類型和概念。這些不同特性的光刻膠產(chǎn)品，為各種復(fù)雜的微納加工需求提供了多樣化的選擇。
