在微電子和半導(dǎo)體行業(yè)中，檢驗、過程控制或缺陷和故障分析的速度至關(guān)重要。檢測缺陷的速度越快，您做出響應(yīng)的速度也就越快。
DM3 XL 檢驗系統(tǒng)憑借大視場幫助您的團(tuán)隊更快地識別缺陷，提高您的收益率。充分利用的宏觀物鏡，視場寬敞30%。
1、技術(shù)參數(shù)
| 顯微鏡支架 | 堅固的金屬支架 |
| 調(diào)焦 | 2 檔調(diào)焦 (粗調(diào)/微調(diào)，采用 1 µm 測微尺刻度，帶頂部調(diào)焦限位裝置) 或
3 檔調(diào)焦 (粗調(diào)/中調(diào)/微調(diào)，采用 1 µm 和 4 µm 測微尺刻度，帶頂部調(diào)焦限位裝置)扭矩粗調(diào)焦，可調(diào)載物臺高度擋塊 |
| 載物臺 | 尺寸：150mm×150mm
插件：金屬插件、晶片支座或掩模支座
快速的粗略或精準(zhǔn)載物臺定位 |
| 入射光 | 堅固的入射光軸，帶 4 位反射鏡轉(zhuǎn)盤適用于 BF/DF/POL/DIC 和 FLUO
帶斜射照明
帶彩色編碼光圈輔助 (CCDA)
帶中心孔徑可變光闌
帶入射光濾片匣 (雙濾片，直徑 32 mm) |
| 物鏡轉(zhuǎn)盤/物鏡 | 5x BF/DF M32、6x BF M25 和 7x BF M25 物鏡轉(zhuǎn)盤
5 x、10 x、20 x 高反差平場消色差 EPI 物鏡
2.5 x - 100 x 平場消色差 EPI 物鏡
1.25 x - 100 x 平場半復(fù)消色差物鏡
0.7 x 宏觀 50 x、100 x、150 x 平場復(fù)消色差物鏡 |
| 附件 | 選配放大倍率調(diào)節(jié)器 (1x、1.5 x、2x)
選配測量載物臺，適用于 x、y 和 z 向測量 |
| 透射光 | 借助帶光纖的外部冷光源照明 |
| 電源 | 穩(wěn)定的通用電源單元，90-230 V |
更多細(xì)節(jié)盡收眼底，工作更高效優(yōu)點
看到更多細(xì)節(jié)意味著工作更高效。為快速掃描達(dá)到 6" 的大組件，DM3 XL 提供的宏觀物鏡。
利用 0.7x 放大倍率，它可以即刻采集 35.7 mm 的視場 – 比其他常規(guī)掃描物鏡寬敞 30%。
在宏觀物鏡下，缺陷無所遁形：
提高您的收益率
可靠檢測晶片邊緣或中心顯影不足的區(qū)域
檢測不均勻的徑向膜厚度
適用于所有相襯觀察方法的 LED
DM3 XL 針對所有相襯觀察方法使用 LED 照明。LED 照明可提供恒定的色溫，并在所有亮度等級下提供真彩色成像。
在所有亮度等級下實現(xiàn)真彩色成像
自由調(diào)節(jié)
無需更換燈泡 – 無停機(jī)時間
可復(fù)制的結(jié)果
由于 LED 使用壽命長，耗電量低，因此還具有巨大的成本節(jié)約潛力。
光學(xué)“高手”
DM3 XL 讓您以實惠的價格享受到的光學(xué)性能。
采用斜射照明檢驗側(cè)面、邊緣或碎屑：以簡單有效的方式從不同角度照亮樣品，從而實現(xiàn)各種形貌的可視化。
借助深暗場對比檢測樣品較低層中的微小劃痕或小顆粒。
您將對明顯提高的靈敏度和分辨率感到震驚。
請在徠卡光學(xué)中心探索徠卡物鏡產(chǎn)品的更多信息。
