除了可以加工晶圓級尺寸的樣品，托托科技 自主研發(fā) 無掩模光刻機還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設(shè)備可以支持超大幅面（2米）的微納加工，以滿足不同研究和工業(yè)需求。

托托科技 自主研發(fā) 無掩模光刻機：

科研版-Academic 無掩模光刻機

高靈活性、高精度、無掩模的優(yōu)勢，適用于科學研究

6 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達0 . 4  μm

步進式光刻/掃描式光刻

高速版-Speed 無掩模光刻機

更快的加工速度、更強的設(shè)備性能，適用于小批量生產(chǎn)制造

8 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達0.5 μm

掃描式光刻

教育版-Young 無掩模光刻機

桌面型無掩模光刻機，靈活小巧，非常適用于微電子、集成電路等加工制造的實驗課程

2英寸加工幅面

最小特征尺寸可達1 . 5 μm

*以上所有產(chǎn)品的規(guī)格參數(shù)取決于個別工藝條件，并可能根據(jù)設(shè)備配置而有所不同，寫入速度取決于曝光面積。

更多解決方案

材料器件制備一站式解決方案

如果您的研究涉及厭水、厭氧性質(zhì)的材料（如磁性氧化物、Micro-LED、OLED等）又需要進行光刻相關(guān)的實驗，我們可以為您提供手套箱版本的光刻機解決方案。

特殊襯底光刻

光刻不僅適用于常規(guī)硅基襯底，還可以在各種特殊襯底上進行，例如鉆石、光纖、甚至小的發(fā)動機葉片（曲面）等，為各個應(yīng)用領(lǐng)域提供解決方案。

超大幅面光刻

除了可以加工晶圓級尺寸的樣品，托托科技 自主研發(fā) 無掩模光刻機還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設(shè)備可以支持超大幅面（2米）的微納加工，以滿足不同研究和工業(yè)需求。

托托科技是一家快速成長的技術(shù)驅(qū)動型企業(yè)，專注于精密光學儀器的研發(fā)制造。公司目前擁有無掩模版光刻設(shè)備、磁學產(chǎn)品、多模態(tài)光電顯微鏡、超高精度3D光刻產(chǎn)品、3D顯微鏡五個核心產(chǎn)品線，已經(jīng)形成了集設(shè)計、研發(fā)、制造、銷售及客戶咨詢服務(wù)為一體的高科技企業(yè)，致力于給客戶提供技術(shù)支持，以技術(shù)和細致設(shè)計造就品質(zhì)，以耐心服務(wù)和企業(yè)擔當贏得良好口碑。