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VibroMet™ 2 振動拋光機-領(lǐng)拓儀器

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VibroMet™ 2 振動拋光機-領(lǐng)拓儀器可快速去除樣品表面機械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到無應(yīng)力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險電解液。結(jié)合二氧化硅拋光液對樣品進(jìn)行化學(xué)-機械拋光，可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。用戶設(shè)定好程序后就可以離開，樣品會在拋光盤中自動地開始振動拋光。

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VibroMet™ 2 振動拋光機可快速去除樣品表面機械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到無應(yīng)力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險電解液。結(jié)合二氧化硅拋光液對樣品進(jìn)行化學(xué)-機械拋光，可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。用戶設(shè)定好程序后就可以離開，樣品會在拋光盤中自動地開始振動拋光。


設(shè)定后無需過多留心


·樣品在拋光盤中可自動開始振動拋光

·12in [305 mm]直徑拋光盤可同時制備多達(dá)18個樣品



無需使用危險電解液


·替換電解拋光儀和危險電解液
·結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液，MicroCloth 拋光布對樣品進(jìn)行化學(xué)-機械拋光


快速去除樣品表面變形層


·水平運動溫和地拋光樣品不引起機械應(yīng)力
·所得樣品表面適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）
·對混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到理想的制備效果



廣州領(lǐng)拓儀器科技有限公司

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