概述：Labpol12全自動研磨拋光機設(shè)計，可輸入所須參數(shù)進行編程，保存可供以后使用；臺面上帶有旋轉(zhuǎn)盤，由強大的DC馬達(dá)和皮帶驅(qū)動，足夠的扭矩力可同時研磨6個樣品

概述：

Labpol 12全自動研磨拋光機設(shè)計，可輸入所須參數(shù)進行編程，保存可供以后使用；

臺面上帶有旋轉(zhuǎn)盤，由強大的DC馬達(dá)和皮帶驅(qū)動，足夠的扭矩力可同時研磨6個樣品。平板直徑為12"，轉(zhuǎn)速在50 rpm~ 500 rpm之間可調(diào)，可順時針或逆時針方向運動；

拋光頭可接受一個可用于6個樣品的樣品架。樣品尺寸Z高可達(dá)2"。樣品架由馬達(dá)驅(qū)動，以一恒定速度轉(zhuǎn)動。1個6空氣柱被放在旋轉(zhuǎn)樣品架的周圍。每個空氣柱的活動活塞可擴展以提供氣壓，并放在每個樣品點的中心位置。這樣每個樣品被單獨放置。樣品的水平狀態(tài)并不重要，套管可用于滿足特別的樣品直徑，因此可減少樣品在拋光時的傾斜趨勢?？裳心?拋光1個或Z多6個樣品；

研磨/拋光頭的旋轉(zhuǎn)能清楚觀察到，因此能輕松更換底盤，可滿足人工操作或研磨；

如采用Auto 6型拋光頭則不會這麼簡單，因為系統(tǒng)由邏輯控制器草，須通過鍵盤輸入數(shù)據(jù)來操作。程序可通過以下參數(shù)來改變：

☆ 底盤轉(zhuǎn)速；

☆ 拋光或研磨時間；

☆ 水(用于研磨)；

☆ 底盤旋轉(zhuǎn)方向CW順時/CCW逆時；

☆ 滴液單元(用于拋光)開/關(guān)；

輸入?yún)?shù)進行特別編程；

Z多有8個程序可編制和保存，并可連續(xù)使用；

樣品負(fù)載壓力可在5 bar~75psi之間調(diào)整；

在拋光過程中控制應(yīng)用(或滴液) 鉆石懸浮液在壓板上能有效保證拋光的重復(fù)性。Auto 6型有出口可用于滴液單元。2種滴液單元可提供，容量分別為2或4種拋光懸浮液。每個懸浮的噴霧頭受壓力激活。它們放在底盤的上面，受電子控制可以一定頻率滴出液體?？蛇x配磁力攪拌器放在每個液體瓶下面，以確保懸浮液攪拌，以防止沉淀；