本產(chǎn)品適用于材料及產(chǎn)品的應(yīng)力釋放，特別是晶圓或者微電子材料的應(yīng)力釋放

本產(chǎn)品適用于材料及產(chǎn)品的應(yīng)力釋放，特別是晶圓或者微電子材料的應(yīng)力釋放。在高溫環(huán)境中，半導(dǎo)體及金屬材料極易氧化，所以需要抽真空與充氮?dú)饴?lián)動(dòng)加以保護(hù)。同樣的這些材料也更容易受到灰塵污染，100級(jí)甚至更高的潔凈度可保護(hù)這些材料不被污染。

 潔凈度保證方式： 采用耐高溫高效過濾器， 過濾率0.3μm粒子99.97％以上。槽內(nèi)空氣在強(qiáng)制送風(fēng)機(jī)的驅(qū)動(dòng)下，每一次循環(huán)都通過過濾器，槽內(nèi)的顆粒逐漸的被過濾

      氧濃度控制方式：   采用先抽真空后進(jìn)高純度N2置換槽內(nèi)空氣。

    為提高生產(chǎn)效率，開始進(jìn)N2時(shí)，2路N2同時(shí)進(jìn)入槽內(nèi)，氧濃度到達(dá)后，變?yōu)樾?/p>

流量維持，且進(jìn)N2與排N2平衡的方式，既把槽內(nèi)的空氣、廢氣排走，又保證槽內(nèi)是

一微正壓，防止環(huán)境空氣進(jìn)入。

氧濃度控制方式：   采用先抽真空后進(jìn)高純度N2置換槽內(nèi)空氣。

    為提高生產(chǎn)效率，開始進(jìn)N2時(shí)，2路N2同時(shí)進(jìn)入槽內(nèi)，氧濃度到達(dá)后，變?yōu)樾?/p>

流量維持，且進(jìn)N2與排N2平衡的方式，既把槽內(nèi)的空氣、廢氣排走，又保證槽內(nèi)是

一微正壓，防止環(huán)境空氣進(jìn)入。