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全譜直讀光譜儀

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產(chǎn)品簡介全新立式全譜光譜采用國際標準的設計和制造工藝技術,采用全數(shù)字技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,與國際光譜儀技術同步,采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、的CCD檢測器,高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有的性能、極低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。 產(chǎn)品特點優(yōu)化設計的真空光學系統(tǒng):整體

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產(chǎn)品簡介


全新立式全譜光譜采用國際標準的設計和制造工藝技術,采用全數(shù)字技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,與國際光譜儀技術同步,采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、的CCD檢測器,高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有的性能、極低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。

 

產(chǎn)品特點


  • 優(yōu)化設計的真空光學系統(tǒng):整體光學室裝置、帕邢-龍格結構設計,所有譜線集成在羅欄園上;直射式光學技術及透鏡MgF2材料,保證C、S、P、N紫外波長的能量。

  • 全數(shù)字激發(fā)光源:全數(shù)字、高能預燃技術(HEPS),不同樣品設置不同的激發(fā)參數(shù),提高樣品的測量精度和相似性,提高樣品激發(fā)速度,提高火花穩(wěn)定性,使樣品有更好的重現(xiàn)性。

  • 功能性設計的激發(fā)裝置:集成氣路、噴射電極技術,開放式銅火花臺,不僅保證樣品測量精度還能購測量各種復雜形狀的樣品(含線材),單板式透鏡裝置設計,一般人員都能方便對激發(fā)臺進行進行維護和透鏡的清洗。

  • 高集成、高速度讀出系統(tǒng):高性能CCD固態(tài)檢測技術,波段內(nèi)譜線全譜接收; FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術,數(shù)據(jù)讀入功能強大,檢測數(shù)據(jù)整體讀入時間短。

  • 直觀、易操作的分析軟件:基于WINDOWS系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜分析軟件的管理和控制整個測量過程,為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力;儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及的解決方案;儀器實現(xiàn)全譜分析,智能扣干擾,扣暗電流、背景和噪聲的算法,極大的提高了儀器的分析能力。

  •  

技術參數(shù)


 
  • 光學系統(tǒng):帕型)-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng);

  • 波長范圍:170nm~580nm

  • 焦距:400mm

  • 探測器:高性能CCD陣列

  • 光源類型:數(shù)字光源,高能預燃技術(HEPS)

  • 放電頻率:100-1000Hz

  • 放電電流:400A

  • 工作電源:220VAC 50/60Hz

  • 儀器尺寸:720*860*500

  • 儀器重量:約100kg(不含真空系統(tǒng))

  • 檢測時間:依據(jù)樣品類型而定,一般25S左右

  • 電極:鎢材噴射電               

  • 氬氣要求:99.999%

  • 氬氣進口壓力:0.5MPa

  • 氬氣流量:激發(fā)流量約3.5L/min

  • 工作溫度:10℃~35℃

  • 工作濕度:20%~85%

  • 分析間隙:真空軟件自動控制、監(jiān)測



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