等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），符合CE認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)的三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統(tǒng)、機(jī)械泵、真空密封及測量系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)組成，極限真空度可達(dá)10^-5torr

等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），符合CE認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)的三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統(tǒng)、機(jī)械泵、真空密封及測量系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)組成，極限真空度可達(dá) 10^-5 torr 。

主要特點：

1，優(yōu)勢在于各種薄膜材料、低維納米材料等的制備（尤其適用于過渡金屬二維半導(dǎo)體材料的生長與原位摻雜，以及多元二維材料的生長）

2，可選配遠(yuǎn)程等離子射頻發(fā)生系統(tǒng)，可用于各種薄膜材料、低維納米材料等的等離子體輔助生長、刻蝕加工與材料表面修飾（尤其適用于石墨烯、氮化硼等二維材料的無催化生長，缺陷調(diào)控，以及器件制作工藝中的殘膠去除）

3，生長工藝設(shè)計，能滿足任意襯底無催化生長

4，應(yīng)用案例（點擊跳轉(zhuǎn)）

設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)

以上就是東莞市卓聚科技有限公司提供的等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）的介紹，了解更多直接咨詢：