TDF系列X射線晶體分析儀TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結構的一種大型分析儀器，主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參數(shù)、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質(zhì)的結構和單晶位錯等

                                                         TDF系列X射線晶體分析儀
                                            

TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結構的一種大型分析儀器，主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參數(shù)、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質(zhì)的結構和單晶位錯等。

特點
TDF型晶體分析儀采用立式管套，四個窗口可以同時使用。
X射線晶體分析儀采用進口PLC控制技術，控制精度高、抗干擾性好，可實現(xiàn)本系統(tǒng)可靠地工作，PLC控制高壓的開關、升降、具有自動訓練X光管的功能，有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。

高壓發(fā)生器

• 管電壓：10-60KV
• 管電流：2-80mA
• 管電壓、管電流穩(wěn)定度0.3‰
• 額定輸出功率：5KW
• 具有無壓、過壓、無毫安、過功率、無水、X光管超溫等保護
• 功率范圍可通過PLC文本顯示器任意設置
• 工作時間設置范圍：0-999min

• 額定功率：2KW
• 焦點尺寸（mm）：點焦點（1*1）線焦點（1*10）
• 靶材：Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等

• 介電電壓≥100KV
• 長度：2M

• 勞厄相機（大小粉末）
• 平板相機
• 三維樣品臺
• 美國Multiwire相機