光聲無(wú)損膜厚儀
隨著電子和納米科學(xué)時(shí)代的興起，電子元件的小型化已成為其幾乎呈指數(shù)級(jí)性能的重要因素。將技術(shù)層和涂層減薄到納米級(jí)，可以在各種領(lǐng)域取得進(jìn)步。復(fù)雜的制造流程推動(dòng)控制變得越來(lái)越準(zhǔn)確。
光聲無(wú)損膜厚儀為這些演變相關(guān)的許多問(wèn)題提供了解決方案。缺陷檢測(cè)現(xiàn)在在許多行業(yè)中非常必要，以避免在生產(chǎn)過(guò)程中遇到問(wèn)題并提高質(zhì)量水平。
我們使用的光聲技術(shù)設(shè)計(jì)了光聲無(wú)損測(cè)量系統(tǒng)。 技術(shù)源自法國(guó)CNRS 和波爾多大學(xué)的技術(shù)轉(zhuǎn)讓?zhuān)揽考す狻⒉牧虾吐暡ㄖg的相互作用深入物質(zhì)的核心。
我們的非破壞性和非接觸式技術(shù)將光轉(zhuǎn)換為聲頻超過(guò)100GHz 的聲波。 目的在于表征涂層，例如不同類(lèi)型材料的厚度和附著力。特別適用于測(cè)量從幾納米到幾微米的薄層，無(wú)論是不透明的（金屬、金屬氧化物和陶瓷），還是半透明和透明的。 這種光學(xué)技術(shù)不受樣品形狀的影響。
產(chǎn)品特點(diǎn)
- 非破壞性和非接觸式技術(shù)
- 薄膜的表征：厚度、附著力、熱性能
- 快速且可重復(fù)的測(cè)量
- 超精密測(cè)量
- 許多材料可用
- 能檢測(cè)的膜厚度從 2納米～20微米
- 掃描方式：?jiǎn)吸c(diǎn)、XY掃描、表面聲波
- 測(cè)樣樣品種類(lèi)： 不透明、半透明、透明均可測(cè)試。
- 平坦和彎曲的樣品均可
系統(tǒng)構(gòu)成：
儀器使用兩個(gè)同步的超快激光器。會(huì)產(chǎn)生大約100飛秒的不同波長(zhǎng)的激光脈沖。使用這些脈沖進(jìn)行非破壞性和非接觸式測(cè)量。這些都集中在所研究的樣品表面。
能使用的材料
廣泛的材料及其在許多應(yīng)用中的使用使這一材料方面變得非常必要。自產(chǎn)品問(wèn)世以來(lái)，我們的技術(shù)已證明其有能力測(cè)量許多金屬材料。也適用于陶瓷和金屬氧化物，并且不受外形因素的影響。
無(wú)損檢測(cè) (NDT) 具體應(yīng)用案例半導(dǎo)體行業(yè)
半導(dǎo)體行業(yè)為我們周?chē)龅降拇蠖鄶?shù)電子設(shè)備提供了基本組件。它的制造需要在硅晶片上進(jìn)行多次薄膜沉積。
問(wèn)題？
在任何工藝過(guò)程中，不透明薄膜的沉積，無(wú)論是單層還是多層，都需要質(zhì)量控制。無(wú)論是檢測(cè)還是計(jì)量，厚度測(cè)量和界面表征都是確保其質(zhì)量的關(guān)鍵問(wèn)題。
我們的解決方案？
- 高速控制。
- 非破壞性和非接觸式測(cè)量。
- 單層和多層厚度測(cè)量。
顯示器行業(yè)
今天，不同的技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)主導(dǎo)顯示器的生產(chǎn)，而顯示器在我們的日常使用中無(wú)處不在。事實(shí)上，由于未來(lái) UHD-8K 標(biāo)準(zhǔn)以及新興柔性顯示器的制造工藝，這個(gè)不斷擴(kuò)大的行業(yè)存在技術(shù)限制。
問(wèn)題？
一個(gè)像素仍然是一堆薄層有機(jī)墨水、銀、ITO……在這方面，控制薄層厚度的問(wèn)題仍然存在。這些問(wèn)題可能會(huì)導(dǎo)致最終產(chǎn)品出現(xiàn)質(zhì)量缺陷。
我們的解決方案？
- 對(duì)此類(lèi)層的*檢查。
- 提取厚度的可能性。
- 非破壞性和非接觸式厚度測(cè)量。
薄層沉積
無(wú)論是在航空工業(yè)還是科研制造領(lǐng)域，技術(shù)涂層都可用于增強(qiáng)高附加值部件中的某些功能。這些涂層的厚度隨后成為確保目標(biāo)性能的關(guān)鍵因素。
問(wèn)題？
無(wú)論是法律限制還是技術(shù)限制，破壞性測(cè)試的采樣方法通常提供不完整的答案。此外，由于形狀因素、曲率等原因，很難控制3D作品。
我們的解決方案？
- 非破壞性和非接觸式測(cè)試
- 快速測(cè)試厚度數(shù)據(jù)
- 現(xiàn)在可以進(jìn)行在線生產(chǎn)控制
