應(yīng)用實例

基板材料

典型波長

XUV（EUV） 反射鏡

EUV光刻

高階諧波應(yīng)用

阿秒科學(xué)

X射線激光器

多層反射鏡

Mp/Si

Ru/Si

Zr/Al

SiC/Mg

Cr/C

50電子伏至100電子伏

50電子伏至100電子伏

50電子伏至70電子伏

25電子伏至50電子伏

至300電子伏

單層反射鏡

SiC

Pt

Ru

10電子伏至100電子伏

X射線反射鏡

同步加速器應(yīng)用

XFEL應(yīng)用

內(nèi)置X射線無損 檢查設(shè)備

多層反射鏡

W/C

W/B4C

Ru/C

Pt/C

1k電子伏至30k電子伏

單層反射鏡

C

B4C

SiC

Cr

Ni

1k電子伏至30k電子伏

XUV多層反光鏡

描述

基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環(huán)面、橢圓面

基板材料：石英、硅、zero dewer等

多層膜材料：Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C等

基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米 Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT的Mo/Si多層反射鏡具有高達(dá)70％的正入射反射率。 NTT-AT的XUV反射鏡的材料、膜結(jié)構(gòu)和基板形狀可以定制以滿足用戶有關(guān)中心波長和光學(xué)裝置的需求。

基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環(huán)面

基板：石英、硅、zero dewer等

基板材料：W/B4C、W/C、Pt/C等 基板尺寸：大500毫米 NTT-AT提供K-B反射鏡系統(tǒng)、沃爾特反射鏡等

X射線多層反射鏡

描述

反射率，粉紅色；計算的反射率，周期長度： 2.95納米）W/B4C多層和W/C多層膜反射鏡對硬X射線應(yīng)用具有高反射率。為了有效反射和聚集硬X射線，必須大限度地縮小入射角的斜角。這需要較長的反射鏡長度和較小的多層膜周長。

單層反射鏡

描述

基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環(huán)面

基板材料：石英、硅、zero dewer等

多層材料：C、B4C、SiC、Ru、NbN、Pt等

基板尺寸：大500毫米

利用全反射的單層反射鏡用于波束控制、光聚合和去除XUV至X射線范圍內(nèi)的無需波長。 NTT-AT的單層反射鏡的材料和基板形狀可以定制以滿足用戶有關(guān)中心波長和光學(xué)裝置的需求。 帶釕層的橢圓面反射鏡