簡介：典型應用掃描電子顯微鏡SEM場發(fā)射電子顯微鏡FEM半導體分析，加工和修理離子束刻蝕聚焦離子束光刻紋波2ppm

TYPICAL APPLICATIONS
Transmission scanning electron microscopy
Scanning electron microscopy
Semiconductor analysis, milling and repair
Ion beam etching
Focused ion-beam lithography

紋波2ppm

　　威思曼高壓電源的HEM系列是綜合的多輸出高電壓電源，于聚焦離子束。典型的應用包括透射和掃描電子顯微鏡；半導體分析，銑削和修復光盤驅動器頭，離子；束刻蝕和聚焦離子束光刻。模塊化設計方法，允許個別組件可以很容易地配置在一個共同的機架大底盤安裝裝配。接口，邏輯和控制電路是采用表面貼裝技術，盡量減少成本和尺寸。集成加速電源、燈絲電源，吸取極電源，抑制極電源和鏡頭電源。超低輸出紋波，的調整率、穩(wěn)定性、溫漂、精度。高電壓懸浮、數(shù)字化控制技術。HEM系列高精度模塊價格有競爭力，是OEM應用的理想選擇。

技術參數(shù)：

輸入:DC24V, 47到63Hz

加速極電源
輸出電壓：0到-35KV
輸出電流：450μA
紋波：70 mV P-P，從0.1 Hz到1MHZ
線路調整率：輸入變化+ / -10％為100mV
負載調整率：± 0.01％,電壓,滿負荷變化
穩(wěn)定度：預熱2小時候后，1.5V/10小時
溫度系數(shù)：25 PPM / °C

燈絲電源
輸出電壓：0至5 VDC
輸出電流：0到5 A
紋波：10mA P-P,從0.1 Hz到1MHZ
線路調整率：+ / -10％變化為5mA
負載調整率：± 0.1％,電壓,滿負荷變化
穩(wěn)定性：預熱2小時后5mA/10分鐘
溫度系數(shù)：200 PPM / °C

抑制極電源
輸出電壓：-10v 到- 2kv
輸出電流：300uA
紋波：20 mV P-P，從0.1 Hz到1MHZ
線路調整率：輸入+ / -10％變化為100mV
負載調整率：± 0.01％，電壓，滿負荷變化
穩(wěn)定性：預熱2小時后，500mV/10小時
溫度系數(shù)：25 PPM / °C

吸取極電源
輸出電壓：0到-15KV
輸出電流：400μA
紋波：30 mV P-P，從0.1 Hz到1 MHZ,30μA以下
線路調整率：輸入+ / -10％的變化為100mV
負載調整率：± 0.01％,電壓,滿負荷變化
穩(wěn)定性：預熱2小時后，500mV/10小時
溫度系數(shù)：25 PPM / °C

威思曼高壓電源有限公司是直流高壓電源和一體化X射線源供應商，同時提供標準化產品和定制設計服務。產品廣泛應用于醫(yī)療,工業(yè),半導體,安全,分析儀器，實驗室以及海底光纖等設備。