產(chǎn)品型號(hào)

MSK-SP-04-LD超聲霧化熱解涂覆薄膜機(jī),噴膠機(jī)

本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：不需要

2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地

3、氣：不需要

4、工作臺(tái)：設(shè)備為落地式，占地面積1m²以上

5、通風(fēng)裝置：需要

主要特點(diǎn)

 噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長(zhǎng)的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽(yáng)能電池中得廣泛應(yīng)用。

技術(shù)參數(shù)

    1、輸入電源：208V-240V  50Hz/60Hz

    2、步進(jìn)電機(jī)：24V DC

    3、超聲波霧化器：40KHz  130W

    4、滴涂罐：50ml、250ml

    5、滴涂速率：1ml/s-20ml/s

    6、霧滴尺寸：50µm

    7、噴霧器在X軸和Y軸行程：200mm

    8、噴霧器移動(dòng)速度：X軸方向10mm/s-800mm/s，Y軸方向1mm/s-12mm/s（空氣壓縮機(jī)推動(dòng)）

    9、基片盛放臺(tái)：150mm×150mm

    10、可加熱溫度：500℃

    11、溫控表：數(shù)字顯示，可設(shè)置7段升降溫程序

產(chǎn)品規(guī)格

　尺寸：840mm×920mm×1400mm

提拉涂膜機(jī)系列

旋轉(zhuǎn)涂膜、勻膠機(jī)系列

刮膜機(jī)、絲印機(jī)系列

真空鍍膜系列

化學(xué)氣相沉積PECVD