PDMS芯片制作一般包含以下所列舉工藝：① 清洗；② 勻膠；③ 曝光光刻；④ 顯影；⑤ 烤膠；⑥ PDMS成型；⑦ 等離子表面活化處理；⑧ 鍵合；⑨ 打孔。EasyPDMS微流控芯片制作系統(tǒng)可以提供完成以上各工藝流程的整套系統(tǒng)或單個(gè)設(shè)備。

PDMS微流控芯片制作系統(tǒng) EasyPDMS

圖片

簡介

PDMS芯片制作一般包含以下所列舉工藝：① 清洗；② 勻膠；③ 曝光光刻；④ 顯影；⑤ 烤膠；⑥ PDMS成型；⑦ 等離子表面活化處理；⑧ 鍵合；⑨ 打孔。EasyPDMS微流控芯片制作系統(tǒng)可以提供完成以上各工藝流程的整套系統(tǒng)或單個(gè)設(shè)備。

用戶可以根據(jù)自己的需求從設(shè)備列表中選取所對(duì)應(yīng)工藝的設(shè)備，同時(shí)，我們也提供PDMS芯片制作實(shí)驗(yàn)室的整體方案設(shè)計(jì)和搭建服務(wù)，從潔凈間設(shè)計(jì)到實(shí)驗(yàn)室布局，再到設(shè)備選擇，以及用戶采購后的安裝調(diào)試及培訓(xùn)， 客戶只需要提出需求，我們提供一整套服務(wù)，可以做到交鑰匙工程。

工藝及設(shè)備對(duì)應(yīng)表格：

規(guī)格參數(shù)

功能圖解

設(shè)備簡介

 清洗工藝：超聲清洗機(jī)（左）和CUTE 等離子清洗機(jī)（右）

② 勻膠工藝（2選1）：SC100勻膠顯影（左）和ZentriForm PDMS成型機(jī)（右，具備勻膠功能）

 曝光光刻（2選1）：UV-KUB 2單層光刻機(jī)（左）和UV-KUB 3對(duì)位光刻機(jī)（右）

④ 顯影：SC100勻膠顯影機(jī)

⑤ 烤膠：HP100 精密熱板

⑥PDMS成型：ZentriForm PDMS成型機(jī)

⑦等離子表面活化處理：CUTE 等離子清洗機(jī)

⑧鍵合：HP100 精密熱板

⑨打孔：打孔器

應(yīng)用系統(tǒng)

PDMS芯片制作