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RHEED 反射式高能電子衍射儀

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公司名稱 北京匯德信科技有限公司
品牌
型號(hào) RHEED
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時(shí)間 2020/9/29 11:37:04
訪問次數(shù) 979

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

RHEED-反射式高能電子衍射儀是觀察晶體生長重要的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)工具之一。它可以通過非常小的掠射角將能量為10～30KeV的單能電子掠射到晶體表面，通過衍射斑點(diǎn)獲得薄膜厚度，組分以及晶體生長機(jī)制等重要信息。因此反射高能電子衍射儀已成為MBE、PLD等系統(tǒng)中監(jiān)測(cè)薄膜表面形貌的一種標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)。

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

R-DEC公司生產(chǎn)的反射高能電子衍射儀，以便于操作者使用的人性化設(shè)計(jì)，穩(wěn)定性和耐久性以及擁有高亮度的衍射斑點(diǎn)等特點(diǎn)，得到日本本土及其他國家各研究機(jī)構(gòu)的*好評(píng)和認(rèn)可。

　　RHEED-反射式高能電子衍射儀特點(diǎn)：

　　可遠(yuǎn)程控制調(diào)節(jié)電壓，束流強(qiáng)度，聚焦位置以及光束偏轉(zhuǎn)

　　XY軸±5度電子束偏轉(zhuǎn)

　　高效熒光屏擁有高亮度衍射斑點(diǎn)

　　電子槍內(nèi)表面經(jīng)特殊處理，能實(shí)現(xiàn)極低放氣率

　　鎳鐵高導(dǎo)磁合金磁屏蔽罩(可選)

　　可搭載差動(dòng)排氣系統(tǒng)用于低真空系統(tǒng)(可選)

　　負(fù)高壓電源安全閉鎖功能

　　經(jīng)久耐用，穩(wěn)定可靠

　　符合歐盟RoHS指令

　　kSA400分析軟件(可選)

　　RHEED-反射式高能電子衍射儀規(guī)格：

　　30KeV 電子槍

型號(hào)	RDA-004G
電子束徑	φ90μm
燈絲	φ0.1mm 發(fā)夾式鎢燈絲
控制電極	定量偏壓
集束線圈	空心型電磁線圈
偏向線圈	環(huán)形電磁線圈
軸向校正	燈絲，控制電極
絕緣電壓	DC30KV
工作壓強(qiáng)范圍	< 10-4Pa～10-9Pa
大烘烤溫度	200℃
連接法蘭	ICF70（外徑φ2.75英寸）
外形尺寸	φ100 x 401mm （可加長100mm）

30KeV 電子槍電源

型號(hào)	RDA-004P
加速電壓	0～30KV 定電壓電源（紋波值≤0.03%）
電子束電流	0～160μA
燈絲電源	0～2V定電壓電源2Amax（紋波電壓≤0.05%）
燈絲電流	Max. 2A
偏向線圈電源	±1A定電流電源±1V（紋波電壓≤0.05%）
集束線圈電源	±0～1.5A定電流電源0～22V（紋波電壓≤0.05%）
輸入電壓	200V, 220V, 230V, 240V
外形尺寸	480mm x 199mm x 500mm（可加長100mm）
安全功能	安全閉鎖裝置

　　反射高能電子衍射儀分析系統(tǒng)（kSA400 Leader in Analytical RHEED and LEED）

　　kSA400 分析軟件是較專業(yè)的RHEED分析系統(tǒng)，適合各種反射高能電子衍射儀和薄膜沉積系統(tǒng)，目前第四代系統(tǒng)結(jié)合優(yōu)質(zhì)的硬件和功能強(qiáng)大的軟件除了可以實(shí)時(shí)取得分析數(shù)據(jù)之外，還可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)晶格間距，原位應(yīng)力，實(shí)時(shí)薄膜沉積速率以及薄膜厚度的解析。為用戶提供較廣泛的RHEED分析信息。

　　RHEED應(yīng)用

　　RHEED可以廣泛應(yīng)用于MBE(分子束外延), PLD(脈沖激光沉積)等其它需要實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)材料生長狀態(tài)的設(shè)備中。它將帶有晶體表面信息的反射束呈現(xiàn)于接收熒光屏上，通過圖像采集和解析軟件，對(duì)收集到的信息進(jìn)行分析，從而使用戶獲得薄膜厚度，組分以及晶體生長機(jī)制等重要信息。