金屬含量測(cè)試儀
測(cè)定金屬含量?jī)x器設(shè)備分析范圍：從12號(hào)元素Mg鎂到94號(hào)元素PU范圍內(nèi)的31種基本元素，在以上范圍內(nèi)，可以根據(jù)客戶需要更換其他元素。儀器開(kāi)機(jī)并不需要標(biāo)準(zhǔn)化，可以直接測(cè)試，標(biāo)準(zhǔn)化僅僅是可選項(xiàng)。
X射線熒光光譜金屬元素成分測(cè)定儀已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于地質(zhì)、采礦、金屬元素（合金材料、鋼鐵成分）、土壤、環(huán)境、考古、木材、電子、醫(yī)藥、環(huán)保等等

檢測(cè)鋼鐵元素成分含量（含各種合金，不銹鋼等），簡(jiǎn)單方便的是X熒光光譜儀，精度更高穩(wěn)定性更好的是實(shí)驗(yàn)室使用的專(zhuān)業(yè)測(cè)試鋼材成分設(shè)備的是OES光電直讀光譜儀，介紹如下：

金屬含量測(cè)試儀

儀器介紹：

  手持式儀器簡(jiǎn)介：

合金分析儀元素分析范圍

可分析從從12號(hào)元素Mg到94號(hào)元素PU之間的所有合金。

合金分析儀技術(shù)規(guī)格

直讀光譜儀簡(jiǎn)介：

型全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，應(yīng)用了的CMOS信號(hào)采集元件，每塊CMOS都可以單獨(dú)設(shè)值火花個(gè)數(shù)，與光譜儀yi流技術(shù)同步，采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀，既包含了CCD光譜儀的全譜特性，又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素的極低檢出限，整機(jī)設(shè)計(jì)合理，操作簡(jiǎn)單易學(xué)，具有數(shù)據(jù)，長(zhǎng)期穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。

應(yīng)用領(lǐng)域

冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車(chē)、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

可檢測(cè)基體

鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

主要技術(shù)參數(shù)

v  光學(xué)系統(tǒng)：帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

v  波長(zhǎng)范圍：140~680nm

v  光柵焦距：401mm

v  探 測(cè) 器：性能CMOS陣列/CCD陣列

v  光源類(lèi)型：數(shù)字光源，能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）

v  放電頻率：100-1000Hz

v  放電電流：大500A

v  工作電源：AC220V 50/60Hz 1000W

v  檢測(cè)時(shí)間：依據(jù)樣品類(lèi)型而定，一般20S左右

v  電極類(lèi)型：鎢材噴射電極

v  分析間隙：4mm

v  其他功能：真空，溫度，軟件自動(dòng)控制；壓力，通訊監(jiān)測(cè)

主要特點(diǎn)

v  性能光學(xué)系統(tǒng)

采用精度的CMOS元件可測(cè)定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量；測(cè)定結(jié)果，重復(fù)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性hao。

v  自動(dòng)光路校準(zhǔn)

自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；

儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定。

v  插拔式透鏡設(shè)計(jì)

真空光學(xué)系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作，光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護(hù)方便快捷。

v  真空防返油技術(shù)

多級(jí)隔離的真空防返油技術(shù)，采用真空壓差閥門(mén)保證真空泵不工作時(shí)真空光室與真空*隔離；中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進(jìn)入真空室，保障CMOS檢測(cè)器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。

v  開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)

開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析；配合使用小樣品夾具，線材低分析可達(dá)到3mm。

v  噴射電極技術(shù)

采用的噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周?chē)鷷?huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周?chē)粫?huì)與外界空氣接觸，提激發(fā)精度；配上du特氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本。

v  集成氣路模塊

氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護(hù)設(shè)計(jì)，替代電磁閥和流量計(jì)，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

v  數(shù)字化激發(fā)光源

數(shù)字激發(fā)光源，采用為的等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品；可任意調(diào)節(jié)光源的各項(xiàng)參數(shù)，滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

金屬含量測(cè)試儀