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X射線熒光光譜鍍層厚度分析儀

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X射線熒光光譜鍍層厚度分析儀
工作環(huán)境要求:
2.1 環(huán)境溫度要求:15℃-30℃
2.2 環(huán)境相對濕度:<70%
2.3 工作電源:交流220±5V
2.4 周圍不能有強電磁干擾。

詳細信息 在線詢價

X射線熒光光譜鍍層厚度分析儀

我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)等。產(chǎn)品主要應用領域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測等)、玩具安全(EN71-3等),F963中規(guī)定的有害物質:鉛Pb、砷As、銻Sb、鋇Ba、鎘Cd、鉻Cr、Hg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材(水泥、玻璃、陶瓷、耐火材料等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質采礦(各種礦石品位檢測設備)、塑料(無鹵測試等)、石油化工、高嶺土、煤炭、食品、空氣、水質、土壤、環(huán)境保護、香精香料、紡織品、醫(yī)藥、商品檢驗、質量檢驗、醫(yī)療器械重金屬含量測試、人體微量元素和化合物檢驗等等。銷售的儀器設備應用于元素分析,化合物測試,電鍍鍍層厚度檢測等。下面介紹電鍍膜厚檢測儀器:

鍍層檢測:

2.1、常見金屬鍍層有:

鍍層

基體

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

2.2、單層厚度范圍:

金鍍層0-8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內,

可最小測量達0.001um。

2.3、多層厚度范圍

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

2.4、鍍層層數(shù)為1-6層

X射線膜厚測試儀產(chǎn)品優(yōu)勢:

1. 鍍層檢測,多鍍層檢測可達5層,精度及穩(wěn)定性可控制在+/-5%內。

2. 激光定位和自動多點測量功能。

可檢測固體、粉末狀態(tài)材料。

運行及維護成本低、無易損易耗品,對使用環(huán)境相對要求低。

可進行未知標樣掃描、無標樣定性,半定量分析。

操作簡單、易學易懂、精準無損、高品質、高性能、高穩(wěn)定性,快速出檢測結果。

可針對客戶個性化要求量身定做輔助分析配置硬件。

軟件*升級。

無損檢測,一次性購買標樣可長期使用。

使用安心無憂,售后服務響應時間24H以內,提供*保姆式服務。

可以遠程操作,解決客戶使用中的后顧之憂。

可進行RoHS檢測(選配功能),應對新版中華人民共和國RoHS檢測要求,歐盟及北美RoHS檢測等要求標準,精確的測試RoHS指令中的鉛、汞、鎘、鉻、鋇、銻、硒、砷等重金屬,測試無鹵素指令中的溴、氯等有害元素。亦可對成分進行分析。

(二)X射線膜厚測試儀產(chǎn)品特征

高性能高精度X熒光光譜儀(XRF)

計算機 / MCA(多通道分析儀)

2048通道逐次近似計算法ADC(模擬數(shù)字轉換器)

Multi Ray. 運用基本參數(shù)(FP)軟件,通過簡單的三步進行無標樣標定,使用基礎參數(shù)計算方法,對樣品進行精確的鍍層厚度分析,可以增加RoHS檢測功能。

MTFFP (多層薄膜基本參數(shù)法) 模塊進行鍍層厚度及全元素分析

勵磁模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A1

吸收模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A2

線性模式進行薄鍍層厚度測量

相對(比)模式 無焦點測量 DIN 50987.3.3/ ISO 3497

多鍍層厚度同時測量

單鍍層應用 [如:Cu/ABS等]

雙鍍層應用 [如:Ag/Pd/Zn, Au/Ni/Cu等]

三鍍層應用 [如:Au/Ni-P/Cu/Brass等]

四鍍層應用 [如:Cr/Ni/Cu/Zn/SnPb等]

合金鍍層應 [如:Sn-Ni/ABS  Pd-Ni/Cu/ABS等]

5. Smart-Ray. 快速、簡單的定性分析的軟件模塊??赏瑫r分析20種元素。半定量分析頻譜比較、減法運算和配給。

Smart-Ray. 金屬行業(yè)精確定量分析軟件??梢淮涡苑治?5種元素。小二乘法計算峰值反卷積。采用盧卡斯-圖思計算方法進行矩陣校正及內部元素作用分析。金屬分析精度可達+ /-0.02%,貴金屬(8-24 Karat) 分析精度可達+ /-0.05kt

Smart-Ray。含全元素、內部元素、矩陣校正模塊

Multi-Ray, Smart-Ray. WINDOWS7軟件操作系統(tǒng)

完整的統(tǒng)計函數(shù)均值、 標準差、 /高讀數(shù),趨勢線,Cp 和 Cpk 因素等

自動移動平臺,用戶使用預先設定好的程序進行自動樣品測量。大測量點數(shù)量 = 每9999 每個階段文件。每個階段的文件有多 25 個不同應用程序。特殊工具如"線掃描"和"格柵"。每個階段文件包含*統(tǒng)計軟件包。包括自動對焦功能、方便加載函數(shù)、瞄準樣品和拍攝、激光定位和自動多點測量功能。

(三)X射線膜厚測試儀產(chǎn)品配置及技術指標說明

u 測量原理:能量色散X射線分析

u 樣品類型:固體/粉末

u X射線光管:50KV,1mA

u過濾器:多重濾光片自動轉換

u檢測系統(tǒng):SDD探測器(或Si-Pin)

u能量分辨率:125±5eV(Si-Pin:159±5eV)

u檢測元素范圍:Al (13) ~ U(92)

u準直器孔徑:0.1/0.2/0.3/0.5/1/4/4mm(可選)

u應用程序語言:韓/英/中

u分析方法:FP/校準曲線,吸收,熒光

u儀器尺寸:618*525*490mm

u樣品腔尺寸:340*280*108mm

X射線管:高穩(wěn)定性X光光管

微焦點X射線管、Mo (鉬) 靶

鈹窗口, 陽極焦斑尺寸75um,油絕緣,氣冷式,輻射安全電子管屏蔽。

50kV,1mA。高壓和電流設定為應用程序提供優(yōu)異性能。

探測器:SDD 探測器(可選Si-Pin)

能量分辨率:125±5eV(Si-Pin:159±5eV)

X射線熒光光譜鍍層厚度分析儀

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