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離子減薄儀

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設(shè)備介紹離子減薄儀（PrecisionIonPolishingSystem），為整套TEM樣品制備的道工序，經(jīng)氬離子減薄的樣品可在TEM下直接觀察，入射角可以從10至-10，制樣速度快，能夠以最小的耗費制備出高質(zhì)量的TEM樣品；儀器操作方便快捷；配備了低能量離子槍功能，尤其適合對能量敏感性樣品的減薄

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設(shè)備介紹

離子減薄儀（Precision Ion Polishing System ），為整套TEM樣品制備的道工序，經(jīng)氬離子減薄的樣品可在TEM 下直接觀察，入射角可以從10°至-10°，制樣速度快，能夠以最小的耗費制備出高質(zhì)量的TEM樣品；儀器操作方便快捷；配備了低能量離子槍功能，尤其適合對能量敏感性樣品的減薄。

儀器型號

美國 GATAN Gatan691

技術(shù)參數(shù)

  • 光束直徑5keV 下350μm
  • 離子電流密度 10mA/cm2
  • 樣品尺寸3mm或2.3mm
  • 減薄角度+10° 到 -10°
  • 離子束能量100eV 到6.0 KeV

案例展示

    應(yīng)用范圍

    離子減薄儀（Precision Ion Polishing System ），主要用于陶瓷、半導(dǎo)體、金屬和合金等多種材料的透射電子顯微鏡樣品的制備。


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