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棱鏡耦合儀SPA-4000

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棱鏡耦合儀SPA-4000利用波導耦合原理,測量薄膜或體材料的折射率,薄膜厚度,熱光系數(shù)以及波導損耗等,用戶可選擇632.8nm,830nm,1310nm,1550nm以及其它可見光和近紅外光源

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棱鏡耦合儀SPA-4000利用波導耦合原理,測量薄膜或體材料的折射率,薄膜厚度,熱光系數(shù)以及波導損耗等,用戶可選擇632.8nm,830nm,1310nm,1550nm以及其它可見光和近紅外光源。

主要功能:
1、薄膜及波導折射率/厚度/波導損耗測量;
2、薄膜及體材料的雙折射測量;
3、體材料折射率的測量;

4、液體折射率的測量;
5、折射率隨溫度變化的測量分析;
6、折射率隨深度變化的測量分析;

主要應用領(lǐng)域:
1、光波導器件芯片的制備;
2、激光晶體的制備;
3、聚合物材料的屬性研究;
4、顯示技術(shù)相關(guān)材料的測量;
5、光/磁存儲材料的測量;
6、光學薄膜的制備;

主要測量參數(shù):

測量對象測量內(nèi)容及參數(shù)
折射率折射率測量范圍1.0 - 2.45
折射率精度0.001
折射率分辨率±0.0005
厚度厚度測量范圍0.4? - 20?
厚度精度±0.5%
厚度分辨率±0.01?
體材料(僅測折射率)折射率精度0.0005
折射率分辨率±0.0001
厚薄膜厚度測量范圍2? - 150?
液體(僅測折射率)折射率測量范圍1.0 - 2.4
折射率精度±0.0005
熱光系數(shù)溫度測試范圍室溫-150℃
波導損耗測量測量限度below 0.05dB/cm

可測量的薄膜和襯底材料類型:

硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍寶石、鋰酸鈮等任何光滑的襯底材料均可測量。

薄膜類型襯底類型
Silicon NitrideSilicon
Silicon DioxideSilicon OxynitrideGaAs
Low-k filmsPolymers
Quartz
PolyimidesITOGlass
Zinc SulfideTitanium DioxideSapphire
SapphireEpi GarnetGGG
PhotoresistsHolographic GelsLithium Niobate

一些材料的厚度測量范圍:

薄膜類型和折射率厚度和折射率同時測量僅測量厚度
硅基上的二氧化硅(n=1.46)0.48-15mm
0.20-0.48mm
硅基上的光刻膠(n=1.63)0.42-15mm0.18-0.42mm
二氧化硅上的光刻膠(n=1.63)0.70-15mm0.30-0.70mm
硅基上的聚酰亞胺(n=1.72)0.38-15mm0.15-0.38mm
二氧化硅上的聚酰亞胺(n=1.72)
0.50-15mm0.16-0.50mm
硅基上的氮氧化硅(n=1.80)0.35-15mm
0.14-0.35mm
二氧化硅上的氮氧化硅(n=1.80)0.45-15mm0.13-0.45mm
硅基上的氮化硅(n=2.0)
0.32-15mm0.12-0.32mm
二氧化硅上的氮化硅(n=2.0)0.30-15mm
0.15-0.30mm



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