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CMSD2000 石墨烯/CdS量子點復(fù)合材料研磨分散機

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石墨烯/CdS量子點復(fù)合材料研磨分散機,石墨烯復(fù)合材料高速分散機立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

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石墨烯/CdS量子點復(fù)合材料研磨分散機,石墨烯復(fù)合材料高速分散機,管線式高速分散機,德國進口高速分散機,新型石墨烯復(fù)合材料高速分散機

作為石墨烯家族的一員,石墨烯量子點( GQDs) 除了具有石墨烯的優(yōu)異性能,還因量子限制效應(yīng)和邊界效應(yīng)而展現(xiàn)出一系列新的特性,因此吸引了化學(xué)、物理、材料和生物等各領(lǐng)域科學(xué)家的廣泛關(guān)注。

采用超聲化學(xué)法制備了CdS/石墨烯納米復(fù)合材料,超聲化學(xué)法不僅合成過程簡單,而且石墨烯表面所負載的CdS 納米粒子尺寸小、分散性好,與石墨烯的結(jié)合牢固。

超聲化學(xué)法是利用超聲波所引發(fā)的特殊物理、化學(xué)條件加強和改善液-固非均勻體系的化學(xué)反應(yīng)、強化傳質(zhì)過程,使反應(yīng)體系實現(xiàn)微觀或介微觀均勻混合, 使得晶體的生長和顆粒的團聚得到有效的控制,因而可以得到粒度分布窄的超細顆粒。由于該方法具有易于控制、周期短、效率高等優(yōu)點,已經(jīng)被用來成功制備了多種金屬納米顆粒、氧化物納米棒以及金屬硫化物納米顆粒等。

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結(jié)果顯示,CdS量子點提高了石墨烯結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定和層間傳導(dǎo)性,從而相比于石墨烯表現(xiàn)出更優(yōu)異的電化學(xué)性能。同時石墨烯/CdS 量子點復(fù)合材料不僅與電解液有良好的相容性, 而且還顯著地提高了電池的可逆容量。

目前,石墨烯-納米粒子復(fù)合材料的研究主要集中在一元納米粒子的復(fù)合,關(guān)于多元納米粒子組合的報道還非常少,有待我們進一步研究。

上海依肯研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

 

 

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

石墨烯/CdS量子點復(fù)合材料研磨分散機,石墨烯復(fù)合材料高速分散機,管線式高速分散機,德國進口高速分散機,新型石墨烯復(fù)合材料高速分散機

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

 

研磨分散機的特點:

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國x先x的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

 

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

研磨分散機的應(yīng)用領(lǐng)域:

  1. 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
  2. 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
  3. 農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復(fù)合肥、乳油濕性粉劑
  4. 生物醫(yī)藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
  5. 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精
  6. 食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
  7. 涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土
  8. 造紙工業(yè)、紙漿、膠黏劑、松香分散、碳酸鈣、填料助劑、顏料混合、樹脂乳化
  9. 環(huán)境保護、廢水、污水處理、改質(zhì)、回收利用
  10. 其它:造紙、陶瓷泥釉、除銹劑、*

 

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