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賽默飛色譜及痕量元素分析

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iCAP TQ ICPMS分析高純稀土中痕量稀土雜質(zhì)

閱讀:1674      發(fā)布時(shí)間:2022-5-31
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  "工業(yè)的維生素"
 
  稀土元素被譽(yù)為"工業(yè)的維生素",具有豐富的磁、光、電等特性,在現(xiàn)代高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)和功能材料中起到了至關(guān)重要的作用。這些材料主要包括稀土永磁材料、稀土催化材料、發(fā)光材料、貯氫材料、磁制冷材料、光導(dǎo)纖維、磁光存儲(chǔ)材料、巨磁阻材料、稀土激光材料、超導(dǎo)材料、介電材料等,在航空、航天、信息、電子、能源、交通、醫(yī)療衛(wèi)生等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。
 
  高純稀土通常是指純度高于99.99%的稀土金屬或其氧化物。高純稀土材料中存在的其它稀土雜質(zhì)元素常會(huì)對最終產(chǎn)品的功能產(chǎn)生影響,隨著提煉技術(shù)的不斷改進(jìn),使得稀土氧化物純度可達(dá)到6N(行業(yè)上通指稀土雜質(zhì)元素含量),從而對于痕量稀土雜質(zhì)測定方法提出了更高的要求。針對高純稀土中的雜質(zhì)檢測會(huì)有下面難點(diǎn)。
 
  主基體的濃度太高,會(huì)干擾雜質(zhì)元素的檢測
 
  對于高純稀土中的雜質(zhì)檢測,往往樣品是5N(99.999%)及以上級別含量非常低,需要儀器有足夠高的靈敏度
 
  案例
 
  分析
 
  測定6N級高純稀土氧化釓
 
  (Gd2O3 )中的14種稀土雜質(zhì)
 
  目前氧化釓中稀土雜質(zhì)檢測方法主要依據(jù)國標(biāo)GB/T18115.7中的電感耦合等離子體發(fā)射光譜法( ICP-OES) 和質(zhì)譜法( ICP-MS)。
 
  在ICP-OES分析中,由于Gd的譜線十分密集,對其他稀土雜質(zhì)元素的譜線干擾非常嚴(yán)重,測定范圍在0.001%-0.05%之間,難以滿足更高純度要求。
 
  單桿ICP-MS 質(zhì)譜法具有更低的檢出限,但Gd具有7個(gè)天然豐度同位素,當(dāng)采用SQ-ICP-MS方法進(jìn)行氧化釓中其它稀土雜質(zhì)元素分析時(shí),Yb和Lu將受到嚴(yán)重的[ 152 154 155 156 157 158 160 Gd16 17 18 O]+和[ 152 154 155 156 157 158 160 Gd 16 17 18 OH]+類多原子類干擾,在現(xiàn)有的GB/T18115.7標(biāo)準(zhǔn)方法中,針對氧化釓中鐿和镥的測定制定了采用C272柱分離釓基體后再進(jìn)行ICP-MS法測定方案,各雜質(zhì)元素的最di定量下限可達(dá)0.0001%,能夠?qū)崿F(xiàn)近5N級釓純度的測定。但這種分離技術(shù)非常費(fèi)時(shí),步驟繁瑣,對方法測定結(jié)果的影響因素多。
 
  "賽默飛三重四極桿ICPMS"
 
  賽默飛三重四極桿ICPMS不經(jīng)任何基體分離手段,能輕松解決高純稀土元素中雜質(zhì)元素檢測的干擾問題,為高純稀土質(zhì)量提供有力質(zhì)量控制手段。
 
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  實(shí)驗(yàn)測定結(jié)果
 
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iCAP TQ 三重四極桿ICPMS-高純稀土元素檢測利器
 
  利用 Q1的iMS智能化質(zhì)量篩選功能可有效地將高純稀土基體離子進(jìn)行剔除,然后通過Q2碰撞反應(yīng)池中加入特定的反應(yīng)氣體,如氧氣或者氨氣,將待測稀土雜質(zhì)離子或者基體氧化物離子的質(zhì)量數(shù)進(jìn)行遷移,解決了質(zhì)量數(shù)重疊干擾。
 
  簡單操作
 
  賽默飛Qtegra™ 智能科學(xué)數(shù)據(jù)處理軟件(ISDS™)通過自帶的Reaction Finder 軟件工具,能夠自動(dòng)為分析任務(wù)確定*測量模式,幫助用戶方便地建立方法,節(jié)省了日常方法建立所消耗的時(shí)間。
 
  為全國稀土行業(yè)的客戶提供解決方案
 
  賽默飛采用iCAP TQ ICPMS/MS三重四極桿質(zhì)譜儀無需采用繁雜的分離稀土基體技術(shù),就能輕松去除基體元素形成的干擾,從而準(zhǔn)確測定稀土雜質(zhì)元素的含量,為全國稀土行業(yè)的客戶提供解決方案以滿足行業(yè)發(fā)展的迫切需求。
 
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